檢索結果:共3筆資料 檢索策略: "趙崇禮".ccommittee (精準) and ckeyword.raw="表面粗糙度"
個人化服務 :
排序:
每頁筆數:
已勾選0筆資料
1
矽晶圓為製造半導體元件的關鍵基礎材料與太陽能製造用的矽基板不同的是,半導體用之矽晶圓經過線切割後,還需要經過蝕刻、拋光之加工,如何有效提供加工效率以及減少後續拋光製程之加工為本研究主要目的。本研究將…
2
在半導體積體電路製程中,局部拋光液膜中奈米粒子磨粒之動能在化學機械拋光過程中扮演重要角色。本研究使用電致動力技術 (Electro-Kinetic Force, EKF)配合高精密拋光機,利用電雙層…
3
固定式磨料或鑽石線鋸切割技術(DWS)隨著技術的進步已逐漸被開發為游離磨料線鋸切削(SWS)的潛在替代品,可用於對硬質和脆性材料進行切片。儘管此技術有許多優點,DWS工藝仍會在切割表面上造成粗糙度、…